Tecnoestrés y Adicción al teléfono inteligente mediado por la distracción por teléfono inteligente en universitarios

Introducción: el desarrollo de actividades académicas a través de espacios virtuales contribuye a incrementar el uso de Smartphones en los universitarios, surgiendo la necesidad de estudiar los efectos de su uso. Objetivo: evaluar el efecto mediador de la distracción por Smartphone entre el tecn...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Miguel Vallejos-Flores (Author), Karim Talledo-Sánchez (Author), David Carlos-Ventura (Author), Aaron Caycho-Caja (Author), Jessica Sullcahuaman Amesquita (Author), Diana Rime Huamanyauri (Author)
Format: Book
Published: Universidad Peruana de Ciencias Aplicadas, 2024-07-01T00:00:00Z.
Subjects:
Online Access:Connect to this object online.
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Description
Summary:Introducción: el desarrollo de actividades académicas a través de espacios virtuales contribuye a incrementar el uso de Smartphones en los universitarios, surgiendo la necesidad de estudiar los efectos de su uso. Objetivo: evaluar el efecto mediador de la distracción por Smartphone entre el tecnoestrés y la adicción a los Smartphone en universitarios de Lima Metropolitana. Método: Una muestra de 550 universitarios, con edades entre 18 y 35 años, fue evaluada con la Escala de distracción por Smartphone, la Escala de tecnoestrés para universitarios y la Escala de adicción basada en aplicaciones para teléfonos inteligentes. Se realizó un análisis de regresión para evaluar el rol mediador de la distracción por smartphones en la relación explicativa entre el tecnoestrés y la adicción a los celulares. Resultados: se identificó un efecto completo por parte del mediador, además se observa que existe un efecto indirecto del tecnoestrés sobre la adicción al smartphone. Discusión: la distracción por smartphone tiene un efecto sobre la adicción a los teléfonos celulares siempre y cuando esté presente la distracción como mediador.
Item Description:10.19083/ridu.2024.1957
2223-2516