Study The Surface Characterization of Anodic grow SiO2 nano Film on Si by using AFM
في هذا العمل تم دراسة خصائص السطح النانوي لغشاء SiO2 ذي سمك بحدود (2.3- 11.5) nm باستخدام المجهر القوة الذرية . تم أنماء غشاء نانوي من SiO2 على أرضية Si (100) نوع p-type وذلك باستخدام تقنية الأكسدة الانودية وباستعمال محلول (%75H2O+%25 isopropanol ) بوجود 0.1N KNO3 كاالكتروليت مساعد . ولوحظ من ال...
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Book |
| Published: |
University of Mosul-college of Basic Education,
2018-12-01T00:00:00Z.
|
| Subjects: | |
| Online Access: | Connect to this object online. |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Summary: | في هذا العمل تم دراسة خصائص السطح النانوي لغشاء SiO2 ذي سمك بحدود (2.3- 11.5) nm باستخدام المجهر القوة الذرية . تم أنماء غشاء نانوي من SiO2 على أرضية Si (100) نوع p-type وذلك باستخدام تقنية الأكسدة الانودية وباستعمال محلول (%75H2O+%25 isopropanol ) بوجود 0.1N KNO3 كاالكتروليت مساعد . ولوحظ من التحليل الكيميائي لسطح SiO2 باستخدام (EDAX) وجود عنصر الأوكسجين (O) وعنصر السليكون (Si). وكذلك لوحظ أن سمك الاوكسيد SiO2 يزداد بزيادة جهد الإنماء . تم استخدام تقنية AFM لدراسة طوبغرافية النانوية لغشاء SiO2 . لقد وجد أن كل من الخصائص التالية ، طوبغرافية النانوية لغشاءSiO2 النانوي ، معدل خشونة ، مساحة الحبيبة ، حجم الحبيبة وأخيرا طول الحبيبة تزداد مع زيادة سمك SiO2 النانوي |
|---|---|
| Item Description: | 1992-7452 2664-2808 10.33899/berj.2018.159205 |