Dimensional effect of doped porous ge using SILVACO TCAD simulation for potential optoelectronics application / A.F. Abd Rahim ...[et al.]
Ge is considered to have several advantages over Si due to its high mobility and direct band gap, which makes it ideal for optoelectronic applications. The manipulation of bulk Ge into small structures has drawn a lot of interest due to the numerous distinctive properties caused by the impact of siz...
Збережено в:
Автори: | Abd Rahim, A.F (Автор), Mohamad Shuhaimi, N. S. I. (Автор), Mohd Razal, N. S. (Автор), Radzali, R. (Автор), Mahmood, A. (Автор), Hamzah, I.H (Автор), Packeer Mohamed, M F (Автор) |
---|---|
Формат: | Книга |
Опубліковано: |
Universiti Teknologi MARA Cawangan Pulau Pinang,
2021-08.
|
Предмети: | |
Онлайн доступ: | Link Metadata |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Схожі ресурси
Схожі ресурси
-
Heterojunction ZnO on silicon for potential UV to visible photodetector utilising SILVACO TCAD effect of thickness and doping / A. Azmi Ahmad ... [et al.]
за авторством: Azmi, Azila, та інші
Опубліковано: (2022) -
Characterization and fabrication of 90nm strained silicon PMOS using TCAD silvaco / M. A. Abd Hamid and F. Sulaiman
за авторством: Abd Hamid, M. A., та інші
Опубліковано: (2012) -
Performance of high-k dielectric material for short channel length MOSFET simulated using silvaco TCAD tools / Fatin Antasha Anizam ... [et al.]
за авторством: Anizam, Fatin Antasha, та інші
Опубліковано: (2021) -
Optoelectronics
Опубліковано: (2021) -
Optoelectronics Materials and Techniques
Опубліковано: (2011)