Thickness and crystalline properties of sputtered polycrystalline silicon thin film deposited on Teflon substrates / Shaiful Bakhtiar Hashim, Norhidayatul Hikmee Mahzan and Sukreen Hana Herman

A Polycrystalline silicon (poly-Si) thin film was successfully deposited on Teflon substrates at a room temperature using radiofrequency (RF) magnetron sputtering. The effects of sputtering pressure on the thickness and crystallinity properties of the thin films have been studied. Raman scattering s...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Автори: Hashim, Shaiful Bakhtiar (Автор), Mahzan, Norhidayatul Hikmee (Автор), Herman, Sukreen Hana (Автор)
Формат: Книга
Опубліковано: 2017.
Предмети:
Онлайн доступ:Link Metadata
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!

Схожі ресурси