PENGARUH TEMPERATUR ANNEALING TERHADAP STRUKTUR MIKRO FILM TIPIS NANOPARTIKEL Au DENGAN METODE EVAPORASI - Taufik Hidayat, - (2011)
Telah ditumbuhkan film tipis Au diatas substrat silikon wafer (100) dengan metode evaporasi dan diikuti dengan proses annealing untuk membentuk butiran berukuran nano dengan temperatur annealing masing-masing 320oC, 360oC, dan 400oC selama 85 menit pada lingkungan gas nitrogen. Morfologi permukaan diamati melalui pencitraan SEM, dan komposisi penyusun film tipis dapat diketahui dengan melakukan karakterisasi EDX. Hasil karakterisasi SEM memperlihatkan adanya pengaruh temperatur annealing terhadap struktur mikro film tipis. Pada film tipis dengan temperatur 320oC memperlihatkan tidak terbentuknya butiran sedangkan film tipis dengan temperatur 360oC dan 400oC telah berhasil membentuk butiran dimana film tipis dengan temperatur 400oC mempunyai diameter butir yang lebih besar, jarak antar butir lebih panjang, dan kerapatan lebih kecil dibandingkan film tipis dengan temperatur 360oC. Hasil karakterisasi EDX menunjukan adanya oksidasi pada film tipis yang diberikan temperatur 400oC. Dengan mengubah parameter temperatur annealing diharapkan dapat menghasilkan film tipis yang lebih baik.