PENUMBUHAN DAN UJI POLARISASI FILM BaSrTiO3 DOPING Nb2O5 (BNST)

• Main Author: DARSONO, Dadang (Author)
• Format: Book
• Published: 2007-08-27.
• Subjects: Thesis; NonPeerReviewed
• Online Access: Link Metadata

Summary

Telah ditumbuhkan lapisan tipis Barium Strontium Titanat (BaSrTiO3) yang didoping dengan Niobium Dioksida Nb2O5 (BNST) di atas substrat gelas corning dan silikon dengan metode Chemical Solution Deposition (CSD) teknik Spin Coating. Proses penumbuhan dilakukan pada kecepatan putaran 3000rpm selama 30detik. Film BaSrTiO3 doping Nb2O5 (BNST) ditumbuhkan pada suhu sintering 8500C dan 4500C selama 3 jam.Variasi prosentase pendopingan sebesar 1%, 2% dan 4%. Hasil uji polarisasi remanen film BNST 1%, 2% dan 4% pada substrat gelas corning pada Vmax 10 Volt masing-masing sebesar 0.057 , 98.165 , dan 46.300 dan untuk BNST 1%, 2% pada substrat silikon pada Vmax 10Volt dan 7Vol masing-masing sebesar 0,172 dan 2,524 . Hasil perhitungan nilai polarisasi spontan film BNST 1%, 2% dan 4% untuk substrat gelas corning masing-masing sebesar 117.42 , 118.32 , dan 116.94 , sedangkan BNST pada substrat silikon masing-masing sebesar 127.38 , 126.92 , dan 124.81 . Hasil ini menunjukan bahwa dengan adanya penambahan doping Nb2O5 pada BaSrTiO3 nilai polarisasi remanen mengalami peningkatan. Peningkatan nilai polarisasi remanen lapisan tipis ini menambah aplikasi bahan sebagai non-volatile memori, FRAM. Kata kunci: BST, XRD, metode Chemical Solution Deposition(CSD tejknik Spin Coating), ferroelektrik, polarisasi listrik

Item Description

http://repository.upi.edu/814/1/s_d0251_023378_chapter1.pdf
http://repository.upi.edu/814/2/s_d0251_023378_chapter2.pdf
http://repository.upi.edu/814/3/s_d0251_023378_chapter3.pdf
http://repository.upi.edu/814/4/s_d0251_023378_chapter5.pdf
http://repository.upi.edu/814/5/s_d0251_023378_bibliography%281%29.pdf