Micro- and Nano-Fabrication by Metal Assisted Chemical Etching
Metal-assisted chemical etching (MacEtch) has recently emerged as a new etching technique capable of fabricating high aspect ratio nano- and microstructures in a few semiconductors substrates-Si, Ge, poly-Si, GaAs, and SiC-and using different catalysts-Ag, Au, Pt, Pd, Cu, Ni, and Rh. Several shapes...
Gespeichert in:
Weitere Verfasser: | |
---|---|
Format: | Elektronisch Buchkapitel |
Sprache: | Englisch |
Veröffentlicht: |
Basel, Switzerland
MDPI - Multidisciplinary Digital Publishing Institute
2021
|
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | DOAB: download the publication DOAB: description of the publication |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!