Chapter Spatial Atomic Layer Deposition

In conventional atomic layer deposition (ALD), precursors are exposed sequentially to a substrate through short pulses while kept physically separated by intermediate purge steps. Spatial ALD (SALD) is a variation of ALD in which precursors are continuously supplied in different locations and kept a...

Ful tanımlama

Kaydedildi:
Detaylı Bibliyografya
Yazar: Jiménez, Carmen (auth)
Diğer Yazarlar: Bellet, Daniel (auth), Masse de la Huerta, César (auth), Muñoz-Rojas, David (auth), Huong Nguyen, Viet (auth)
Materyal Türü: Elektronik Kitap Bölümü
Dil:İngilizce
Baskı/Yayın Bilgisi: InTechOpen 2019
Konular:
Online Erişim:DOAB: download the publication
DOAB: description of the publication
Etiketler: Etiketle
Etiket eklenmemiş, İlk siz ekleyin!

Internet

DOAB: download the publication
DOAB: description of the publication

3rd Floor Main Library

Detaylı Erişim Bilgileri 3rd Floor Main Library
Yer Numarası: A1234.567
Kopya Bilgisi 1 Kütüphanede