Chapter Spatial Atomic Layer Deposition
In conventional atomic layer deposition (ALD), precursors are exposed sequentially to a substrate through short pulses while kept physically separated by intermediate purge steps. Spatial ALD (SALD) is a variation of ALD in which precursors are continuously supplied in different locations and kept a...
Kaydedildi:
| Yazar: | |
|---|---|
| Diğer Yazarlar: | , , , |
| Materyal Türü: | Elektronik Kitap Bölümü |
| Dil: | İngilizce |
| Baskı/Yayın Bilgisi: |
InTechOpen
2019
|
| Konular: | |
| Online Erişim: | DOAB: download the publication DOAB: description of the publication |
| Etiketler: |
Etiketle
Etiket eklenmemiş, İlk siz ekleyin!
|
Internet
DOAB: download the publicationDOAB: description of the publication
3rd Floor Main Library
| Yer Numarası: |
A1234.567 |
|---|---|
| Kopya Bilgisi 1 | Kütüphanede |