Chapter Spatial Atomic Layer Deposition
In conventional atomic layer deposition (ALD), precursors are exposed sequentially to a substrate through short pulses while kept physically separated by intermediate purge steps. Spatial ALD (SALD) is a variation of ALD in which precursors are continuously supplied in different locations and kept a...
Zapisane w:
| 1. autor: | |
|---|---|
| Kolejni autorzy: | , , , |
| Format: | Elektroniczne Rozdział |
| Język: | angielski |
| Wydane: |
InTechOpen
2019
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | DOAB: download the publication DOAB: description of the publication |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|
Internet
DOAB: download the publicationDOAB: description of the publication
3rd Floor Main Library
| Sygnatura: |
A1234.567 |
|---|---|
| Egzemplarz 1 | Dostępne |