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PENGARUH TEMPERATUR ANNEALING TERHADAP STRUKTUR MIKRO FILM TIPIS NANOPARTIKEL Au DENGAN METODE EVAPORASI

Telah ditumbuhkan film tipis Au diatas substrat silikon wafer (100) dengan metode evaporasi dan diikuti dengan proses annealing untuk membentuk butiran berukuran nano dengan temperatur annealing masing-masing 320oC, 360oC, dan 400oC selama 85 menit pada lingkungan gas nitrogen. Morfologi permukaan d...

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मुख्य लेखक: Taufik Hidayat, - (लेखक)
स्वरूप: पुस्तक
प्रकाशित: 2011-02-25.
विषय:
Thesis
NonPeerReviewed
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