PENGARUH TEMPERATUR ANNEALING TERHADAP STRUKTUR MIKRO FILM TIPIS NANOPARTIKEL Au DENGAN METODE EVAPORASI
Telah ditumbuhkan film tipis Au diatas substrat silikon wafer (100) dengan metode evaporasi dan diikuti dengan proses annealing untuk membentuk butiran berukuran nano dengan temperatur annealing masing-masing 320oC, 360oC, dan 400oC selama 85 menit pada lingkungan gas nitrogen. Morfologi permukaan d...
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Book |
| Published: |
2011-02-25.
|
| Subjects: | |
| Online Access: | Link Metadata |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|