Atomic Layer Deposition
Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition process renowned for its ability to produce layers with unrivaled control of thickness and composition, conformability to extreme three-dimensional structures, and versatility in the materials it can produce. These range from multi-component co...
সংরক্ষণ করুন:
| অন্যান্য লেখক: | |
|---|---|
| বিন্যাস: | বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায় |
| ভাষা: | ইংরেজি |
| প্রকাশিত: |
Basel, Switzerland
MDPI - Multidisciplinary Digital Publishing Institute
2020
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | DOAB: download the publication DOAB: description of the publication |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|