Chapter Spatial Atomic Layer Deposition

In conventional atomic layer deposition (ALD), precursors are exposed sequentially to a substrate through short pulses while kept physically separated by intermediate purge steps. Spatial ALD (SALD) is a variation of ALD in which precursors are continuously supplied in different locations and kept a...

Полное описание

Сохранить в:
Библиографические подробности
Главный автор: Jiménez, Carmen (auth)
Другие авторы: Bellet, Daniel (auth), Masse de la Huerta, César (auth), Muñoz-Rojas, David (auth), Huong Nguyen, Viet (auth)
Формат: Электронный ресурс Глава книги
Язык:английский
Опубликовано: InTechOpen 2019
Предметы:
Online-ссылка:OAPEN Library: download the publication
OAPEN Library: description of the publication
Метки: Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
Search Result 1

Chapter Spatial Atomic Layer Deposition по Jiménez, Carmen

Опубликовано 2019
DOAB: download the publication
DOAB: description of the publication
Электронный ресурс Глава книги